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含硅碳酸根型类水滑石超薄片的制备方法

558   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:33:21
本发明公开了一种含硅碳酸根型类水滑石超薄片的制备方法。将含Si4+及二价和三价金属离子的混合盐溶液与Na2CO3和NaOH的混合碱溶液，在搅拌下同时加入反应器中，通过调节两者的相对添加速率控制反应体系的pH为9～11。其中，二价金属离子为Mg2+、Co2+、Ni2+、Cu2+或Zn2+，三价金属离子为Al3+、Cr3+或Fe3+。所制备的Si‑CO3‑HTlc超薄片厚度小于3纳米，由2～4个类水滑石晶层组成；Si4+与金属离子的摩尔比为0.16～0.27。该制备方法具有工艺简单、条件温和、成本低、环境友好、易于产业化等优势。所制备的Si‑CO3‑HTlc超薄片在催化、储能、阻燃剂、复合材料等领域有重要的应用前景。
声明：
“含硅碳酸根型类水滑石超薄片的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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