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用于EUV光刻的反射镜的基底

828   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:33:20
适用于在EUV波长范围内的波长处使用的反射镜的基底(1)，包含基础体(2)，其中所述基础体(2)由沉淀硬化合金，由合金系的金属间相，由颗粒复合材料或由具有在相应合金系统的相图中位于由相稳定线定界的区域中的组成的合金制成。尤其优选的是，所述基础体(2)由沉淀硬化铜或铝合金制成。此外，高反射层(6)设置在EUV反射镜(5)的基底(1)的抛光层(3)上。
声明：
“用于EUV光刻的反射镜的基底” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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