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用原子层沉积制备复合材料

1030   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 16:18:04
本发明公开了构建含包埋在填料基体(104)中的颗粒(102)的复合材料膜的方法,所述方法包括制备堆积的颗粒的聚集体(100),然后用原子层沉积(ALD)方法在整个颗粒聚集体(100)中沉积基体材料(104)以基本完全填充所述颗粒(102)与所述基体材料(104)间的空间(106,110)。在基体沉积过程中,可周期性地采用气相蚀刻周期来避免所述颗粒聚集体中小孔(214)的堵塞。也公开了通过这样的方法形成的新的复合材料。
声明：
“用原子层沉积制备复合材料” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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