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多通道碳化硅陶瓷膜元件及其制备方法

1040   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:02:21
本发明提供一种多通道碳化硅陶瓷膜元件及其制备方法，制备方法包括如下：支撑体的制备、过渡层的制备、以及表面膜层的制备，其中，支撑体使用碳化硅粉体Ⅰ、碳化硅粉Ⅱ，过渡层使用碳化硅粉Ⅲ，表面膜层使用碳化硅粉Ⅳ，碳化硅粉Ⅳ的平均粒径＜碳化硅粉Ⅲ的平均粒径＜所述碳化硅粉Ⅰ的平均粒径，且碳化硅粉Ⅱ＜碳化硅粉Ⅰ的平均粒径。根据本发明获得的多通道碳化硅陶瓷膜元件，表现为较强的亲水憎油特性；良好的机械性能；所制备的陶瓷膜元件孔隙率在35％～45％之间，结合其亲水憎油特性，膜通量达到氧化铝陶瓷膜的3倍以上；碳化硅的化学稳定性较强，耐受各种溶剂和各种浓度氧化剂；使用温度可以达到800～1000℃。
声明：
“多通道碳化硅陶瓷膜元件及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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