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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型双炉体滑动管式炉，专为冶金领域中的材料蒸发/升华和薄膜沉积实验设计。其配备Φ50×1400mm的石英管和不锈钢密封法兰，最高工作温度可达1200℃。两个炉体可在滑轨上滑动，实现快速加热（最大升温速率100℃/min）和冷却，显著提高实验效率。此外，该设备还可选配电动滑轨、质量流量计（MFC）控制的供气系统和等离子射频电源，用于搭建TCVD系统，满足更复杂的材料合成和薄膜制备需求。
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OTF-1200X-III-80SL是一款通过CE认证的1200℃三温区滑轨式管式炉，专为快速热处理实验设计。其配备直径80mm、长度94mm的石英管和法兰，炉底安装滑轨，支持手动滑动操作。该设备加热和冷却速率最高可达100℃/min，在真空或惰性气体环境下可实现10℃/s的快速升降温，能够显著提高实验效率并降低能耗。在冶金领域，该炉可用于快速热处理金属材料，研究材料在高温下的相变和微观结构变化，是高校、科研机构和企业实验室进行材料研究和开发的理想选择。
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GSL-1600X-FS3KW是一款1600℃水平式闪烧炉，专为快速烧结陶瓷材料而设计，配备3KW可编程交流电源，可通过电极法兰将正负极电极丝引入刚玉样品夹具，施加电场实现闪烧工艺。其最高温度可达1600℃，采用硅钼棒加热元件，加热区长度为290mm，推荐升温速率为≤10℃/min。相较于传统烧结工艺，该设备具有超快速、节能且有利于制备细晶化陶瓷的优势。其可广泛应用于固体氧化物燃料电池、铁电热电陶瓷、固态电解质等领域的材料烧结。在冶金领域，这种快速烧结技术可用于研究陶瓷材料的微观结构和性能，为开发高性能陶瓷基复合材料提供支持。
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OTF-1200X-50-DSL是一款专为定向生长单壁碳纳米管（SWCNTs）设计的水平滑轨式CVD生长炉，同时也适用于在硅片上生长低熔点金属单晶。其炉管直径为Φ50mm，炉体滑动速度可在1mm/s至100mm/s范围内调节，并支持左右反复滑动及自定义滑动距离，为实验提供了高度的灵活性。该系统配备可设置30段程序的高温炉、一根Φ50×1000mm的石英管和一套不锈钢真空法兰，能够满足多种材料生长的需求。在冶金领域，该设备可用于研究低熔点金属的单晶生长机制，为开发高性能金属材料提供重要的实验支持。
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RC-Ni-100是一款专为高温高压冶金实验设计的100ml反应釜，采用镍基高温合金钢制作，具有极高的蠕变强度和抗氧化性。该设备最高工作温度可达1100℃，在该温度下可承受最高压力为4MPa，非常适合在高压氧环境下对金属样品进行热处理，以及通过水热法合成高性能冶金材料。其优异的耐高温高压性能，使其成为冶金领域研究和开发新型材料及工艺的理想工具。
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SKJ-50CZ是一款高质量的CZ晶体生长炉，最高温度可达2100℃，适用于冶金领域中高纯度金属单晶及氧化物单晶的生长。该设备可生长蓝宝石、GGG、YAG、LaAlO₃、Si、Ge等多种材料，最大晶体尺寸可达3英寸。其配备中/高频切换复合感应电源，满足不同材料的熔炼需求，同时采用高精度上称重模式和在线称量装置，确保晶体生长过程的精确控制。此外，设备还具备高真空度（最高可达5.0×10⁻³Pa）和全不锈钢水冷腔体，保证生长环境的稳定。
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GSL-1800X-PGEP是一款专为纳米结构氧化物合成设计的多功能系统，广泛应用于冶金领域。该系统由超声雾化装置、1800℃管式炉和静电沉降装置组成，通过前驱体雾化、高温加热和纳米颗粒收集三个步骤，实现纳米材料的精确制备。其独特的设计能够精准控制颗粒尺寸、形态以及纳米/微粒结构，为冶金研究提供了一种先进的实验手段，尤其适用于开发高性能纳米复合材料和新型冶金催化剂，助力冶金工艺的创新与优化。
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VTF-1200X-III-TSSG是一款3温区顶部籽晶助熔剂法（TSSG）晶体生长炉。此设备主要由3部分组成：3温区加热炉（炉膛尺寸为：Φ127mm×600mm,最高温度为1200℃），温控系统可设置28段温度程序段，控温精度±1℃和精密旋转提拉机构，其提拉速度为0.8-50mm/hour。
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OTF-1200X-SCB是一款小型晶体生长炉，适用于提拉法或布里奇曼法生长单晶，其最高温度可达1100℃。设备主要由提拉机构和炉体组成，提拉机构具有提拉&旋转功能，炉体采用立式双温区管式炉，炉管为直径为Φ50mm的石英管，并且配有不锈钢密封法兰，此设备可采用提拉法（用籽晶从熔融态原来中提拉出单晶）或布里奇曼法（将样品封入到小石英试管里，石英试管在加热区内向下移动）生长各种单晶。
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FMF-65是一款落地式水冷坩埚真空悬浮感应熔炼炉系统，并且带有坩埚倾倒装置，可做金属浇注实验，可用于新一代磁性合金和金属材料的探索研究。设备中包含一功率高达65KW的感应熔炼炉，可有效地加热高达250g的金属样品（Ti），最高加热温度达1800℃。不锈钢真空腔体保证样品可在真空或气氛保护环境下进行熔炼，采用特殊样式的水冷铜坩埚使得金属样品能够在熔炼过程中悬浮，避免了坩埚对物料的污染。熔炼过程中强烈的电磁搅拌也能够保证其样品内部的温度及化学成分的均一性。
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VMCS-1200-LD是一款1200℃的熔炼/铸造炉，适合在气氛保护环境下熔炼各种合金，最高温度可达1200℃。该设备采用封闭腔体设计，可有效防止样品在熔炼和浇注过程中生成氧化物及形成缺陷。其石墨坩埚直径为60mm，配备电阻丝加热和石墨搅拌棒，能够快速熔炼金属，仅需6-8分钟。此外，该设备操作简单，只需设置铸造温度、添加样品并挤压操纵杆即可完成浇注。设备安装尺寸为770mm×460mm×460mm，重量为54kg，配备双极旋片真空泵，所需气体流量为5L/min。
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IMCS-1700HP是一款高压气氛控制感应熔炼/铸造/造粒炉，最高工作温度可达1700℃，腔体可承受气压为1MPa，适用于处理1kg合金样品。该设备采用三相380VAC电源，最大输入功率为25kW，配备感应线圈尺寸为170mm（内径）×110mm（高），并具备自动水压、过热和功率过高保护功能。熔炼腔体采用SS304不锈钢制作，带有水冷夹层，确保工作时表面温度低于60℃，并配备安全卸压阀。温控系统采用PID方式控温，可设置30段升降温程序，控温精度为±5℃，连续工作温度范围为500℃~1600℃，短时间内可达到1700℃。
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OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款双温区带有升降双通道进料系统的共蒸发多层沉积管式炉，通过升降双通道进料系统可装载4个不同材料的蒸发坩埚舟，并且可一次同时送入两个蒸发坩埚源进入管式炉中进行共蒸发或反应蒸发。双温区管式炉可以实现快速加热，并且通过对各个温区设置不同的加热温度可以创建不同的温度梯度从而实现蒸发沉积。双通道进料系统可以在程序控制下将2个装载不同蒸发料的坩埚一同推进拉出，实现共蒸发或者反应蒸发，特别适用于多层二维晶体材料的制备。
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