本实用新型涉及太阳能电池制造的技术领域，尤其涉及一种管式PECVD特气炉。
背景技术：
常规的化石燃料日益消耗殆尽，在现有的可持续能源中，太阳能是一种最清洁、最普遍和最有潜力的替代能源。太阳能发电装置又称为太阳能电池或光伏电池，可以将太阳能直接转换成电能，其发电原理是基于半导体PN结的光生伏特效应。
电池片在生产过程中，需要在硅片的表面镀上一层减反射膜。目前，采用等离子体增强化学气相沉积方法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)，使气体在硅电池片表面发生化学反应并形成覆盖层，即减反射膜。此减反射膜的主要作用是：降低反射率、良好的体钝化和表面钝化，以及利用氮化硅薄膜的强致密性和耐多数酸碱性，在硅片表面形成保护层。电池片的PECVD工序一般通过PECVD机完成，PECVD机在石英管的两端通微波源，表面抽真空的条件下将氨气和硅烷分解成高能离子状态，经过一系列化学反应转变成氮化硅气体，在硅片表面沉积氮化硅固态薄膜，同时分解出来的氢离子，将硅片表面原有缺陷钝化。
目前沉积氮化硅固态薄膜的设备主要有两种，板式PECVD设备和管式PECVD特气炉。如图1所示，管式PECVD特气炉的石英炉管1′内设置有石墨舟，石墨舟包括用于承载硅片的若干石墨舟片2′，硅片处于封闭的石英炉管1′中，与板式PECVD设备镀膜相比，硅片不需要流动前进镀膜，可以在表面有更好的钝化作用，电池效率更高，同时，管式PECVD特气炉主要对石墨舟进行维护，维护简单，对生产的影响更小。但是，如图1所示，现有的管式PECVD特气炉只在管尾4′设有进气口42′，氮化硅气体从进气口42′进入后，需要一定时间才能在石英炉管1′内充分扩散均匀，而实际工艺过程中，还要求气体浓度随时间变化以便生产出不同折射率的减反射膜层。为了控制总工艺时间，确保量产的需要，实际生成过程中并不能等硅烷和氨气在石英炉管1′内充分扩散均匀后再开始沉积，导致石英炉管1′内均匀性不高。此外，石英炉管1′内的气压是通过炉尾4′的排气口41′的开度控制的，排气口41′离进气口42′非常近，排气也会影响气体在管内的均匀性。硅烷和氨气的不均匀分布导致管式PECVD特气炉的成膜均匀性较差，从而导致管式PECVD特气炉处理的硅片有较高的返工率。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提出一种喷气均匀
声明：
“管式PECVD特气炉的制作方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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编辑：中冶有色网
来源：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
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2025年05月16日 ~ 18日 
