1.本发明涉及能源利用技术领域，具体涉及一种高性能辐射制冷无机多层膜。
背景技术：
2.随着制冷需求的快速增长，不需要外部能源投入的环境友好型被动辐射制冷被人们所熟知，辐射制冷作为一种非能耗的制冷方式，在建筑制冷以及电子器件降温等方面得到了广泛的应用。在大气层内日间辐射制冷的两个要素是大气窗口(8-13μm)内的高发射率和太阳光谱区域(0.3-2.5μm)的高反射率，有效利用这两个要素可以实现明显的降温。
3.目前已经广泛采用了高分子聚合物薄膜和表面微结构等，实现了在太阳光谱区域的高反射率和中红外区域(2.5-25μm)的高发射率，并且其制冷效率也有明显的提升，然而，在阳光照射下，由于光/热降解，聚合物的辐射性能会下降，还会存在脱皮等问题，导致其寿命受到限制，因此，无机材料的日间辐射制冷应运而生。
4.在迄今为止进行的无机材料辐射制冷研究中，1mm厚背面镀银的lif晶体，具有4.7％的低太阳吸收率和近乎理想的红外选择性，在大气窗口波段内发射率较高。一种由alon和sio2在al基板上形成的双层涂层组成的日间辐射制冷无机材料，优化后的结构在大气窗口波段达到了较高的平均半球发射率(约70％)，实现了日间辐射制冷。上述涂层相对笨重，生产周期长，工艺成本高，且不适用于房屋以及元器件的辐射制冷。
5.因此，对于辐射制冷材料有必要探索一种在大气窗口具有高发射率，太阳光波段具有高反射率，净冷却功率高，性能稳定，并且结构轻巧，成本较低的无机材料膜系结构及制备技术。
技术实现要素：
6.本发明的目的在于提供一种高性能辐射制冷无机多层膜，该结构在大气窗口处发射率高、太阳光波段反射率高、材料的净冷却功率高，涂层轻巧，制备工艺简单，操作方便，生产周期短，溅射工况稳定。
7.为达到上述目的，本发明提供一种高性能的辐射制冷无机多层膜，该膜系在基材表面由底部到顶部形成四层膜结构，每层膜的功能、组成与制备方法如下：
8.第一层是金属反射层，由金属膜构成，如ag、al等，采用金属靶直流磁控溅射方法，以ar气作为溅射气体制备，该层对太阳光波段光谱具有高反射特性，吸收率低。
9.第二层是金属保护层，成分上由氮化物构成，例如sin
x
，aln，tin等。保护层采用纯靶直流反应磁控溅射技术制备，溅射气体为ar气，反应气体为n2。本层主要作用为保护金属层不被氧化。
10.第三层是人
声明：
“高性能辐射制冷无机多层膜” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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编辑：中冶有色网
来源：北京航空航天大学
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2025年06月06日 ~ 08日 
