专利名称:一种无氰碱性镀铜光亮剂及其制备方法
技术领域:
本发明涉及电镀领域,尤其涉及一种无氰碱性镀铜光亮剂及其制备方法。
背景技术:
电镀铜层具有良好的延展性、导电性、导热性,易于抛光,而且与铁及其它金属亲和力强、结合力好,因此铜镀层可作为预镀层或多层电镀的底层,节约大量的镍及其它贵重金属而被广泛地用于机械、电子、航空航天、兵器、汽车、船舶等工业领域。由于当前的无氰电镀铜技术工艺还不成熟,存在着与铁基体及其它金属镀层结合力差,电流密度范围窄、电流效率不高、镀层不光亮等问题。故目前仍存在大量的采用剧毒的氰化物电镀铜工艺,造成了对环境、水源、土壤的严重污染;且对人体健康极为有害。为此,国家早已颁布了法规,下令除特殊尖端国防技术以外,全面禁止使用氰化物电镀而改为无氰电镀工艺。
目前,已研究开发的无氰碱性镀铜工艺主要有焦磷酸(盐)体系、柠檬酸(盐)体系、酒石酸(盐)体系、柠檬酸(盐)一酒石酸(盐)体系、多聚磷酸盐(HEDP)体系、乙二胺体系等。这些碱性的镀铜工艺都存在有镀液不稳定、易浑浊、抗杂质能力弱、在钢铁基体上铜易被置换析出致使镀铜层与基体间结合力差等问题。最明显的是镀液的性能和镀层的性能还不能达到采用氰化物镀铜所获得的效果。而光亮剂的选择往往直接影响到镀液的性能和镀层的性能。发明内容
为解决上述技术问题,本发明目的在于提供一种无氰碱性镀铜光亮剂及其制备方法,其镀液的性能和镀层的性能均能达到采用氰化物镀铜所获得的效果。本发明的一种无氰碱性镀铜光亮剂,所述光亮剂含有烟酸、吲哚醋酸、聚二氨基脲与乙氧基-2-炔醇醚。进一步地,所述聚二氨基脲吲哚醋酸乙氧基-2-炔醇醚烟酸=5:3:25:0. 5 (质量比)。所述光亮剂用于无氰碱性镀铜溶液中,所述无氰碱性镀铜溶液包括铜盐,主碱,铜盐配位剂,所述铜盐配位剂包括主配位剂及辅助配位剂。所述主配位剂为柠檬酸,所述辅助配位剂为丁二酰亚胺。所述溶液还包括硼酸。 所述溶液还包括酒石酸钾钠。所述溶液还包括葫芦脲。所述光亮剂的浓度为8 20ml/L ;用于所述溶液,其包括如下组分与含量组分含量
五水硫酸铜25 ~ 30g/L
柠檬酸75~90g/L
丁二酰亚胺5~10g/L
四水酒石酸钾钠2 ~ 5 g/L
硼酸25~30g/L
氢氧化钾90~120g/L
葫芦脲O. Ol ~ O. 05mg/L所述溶液的pH值为9
声明:
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