本发明是利用离子注入制备光学晶体的脊形光波导的方法,该方法离子注入、光刻胶掩膜制备和Ar离子束刻蚀。采用能量为2.0-5.0MeV的离子注入到光学晶体的表面,在形成的平面光波导上制备掩膜,用Ar离子束进行刻蚀,能够在光学晶体表面形成脊形光波导;用氧离子和硅离子等注入铌酸锂和偏硼酸钡等非线性光学晶体能够形成增加型的脊形光波导;用氦离子或者氢离子注入多数光学晶体能够形成位垒型脊形光波导。所形成的脊形光波导可以保持较好的非线性光学特性。脊形光波导的厚度、脊背的宽度、深度以及导波模式可以由工艺参数控制。采用本发明可以制作光开关、光调制器等光电子器件。
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