本发明涉及一种{110}高能晶面暴露BiOCl材料的制备方法及其应用。本发明将铋源、氯源和糖类化合物按一定比例混合均匀,将高能球磨的机械力同步作用于化学反应,然后在200~600℃下热处理,再经过洗涤除杂、固液分离、干燥制备出BiOCl材料。所制备的BiOCl材料由厚度2~20nm、边长100~1000nm的纳米片组成,{110}晶面暴露程度为50~100%。本发明具有制备工艺简单、易实现工业化生产、制造工艺成本低、环境友好等优势。所制备的{110}高能晶面暴露BiOCl材料在超级电容器、碱性二次电池、锂离子电池、光催化剂、珠光颜料、医药等领域具有广泛应用。
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