本发明涉及一种酸敏感光刻胶树脂单体的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下反应路线:其中,M为碳数5~7的环烷基,R1为氢原子或烷基,R2为烷基;所述制备方法包括如下步骤:c)向第一溶剂中通入卤甲烷,得到含卤甲烷的第一溶剂溶液;d)在惰性气体条件下,将金属锂和式Ⅳ化合物加入到第一溶剂中混合,滴加步骤c)制备的含卤甲烷的第一溶剂溶液,搅拌,反应,纯化,得到式Ⅲ化合物;f)将式Ⅲ化合物和缚酸剂加入到第二溶剂中混合,并滴加式Ⅱ化合物,经酯化反应,纯化,得到式Ⅰ化合物。本发明制备方法得到的树脂单体为一种酸敏感光刻胶树脂单体,得到的产物收率高,纯度高,杂质少。
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