本发明属于表面活性剂技术领域,具体涉及一种用于OLED领域的化学品制剂,用于OLED掩膜版表面阴极材料LiF的清洗。包括0.5‑5%的乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂,0.5‑2%的高效渗透剂,5‑20%无机强碱性物质,0.5‑20%有机助剂,0.1‑5%螯合剂,余量为高纯水。本发明通过乙二醇基咪唑啉Gemini型非离子表面活性剂与无机强碱混配,可以快速去除蒸镀工艺中掩膜版表面附着的阴极材料LiF,提高锂盐的溶解度,解决市面上产品存在的对掩膜版腐蚀的问题,易清洗无残留。
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