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暴露高能(111)晶面立方结构Cu2Se单晶纳米线的制备方法

813   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:25:33
本发明公开了一种暴露高能（111）晶面立方结构Cu2Se单晶纳米线的制备方法，采用简单的溶剂热法，制备出暴露高能（111）晶面且具有大的纵横比的立方相Cu2Se单晶纳米线，Cu2Se纳米线沿[-202]方向生长，纳米线的直径为142nm～1.1μm、长度为5.4～102μm。本发明操作简单，成本低，重复性和一致性好，所制备的暴露高能（111）晶面立方结构Cu2Se单晶纳米线可望在光催化、太阳能电池、超离子导体、锂离子电池和超级电容器等应用中体现增强的光电性能。
声明：
“暴露高能(111)晶面立方结构Cu2Se单晶纳米线的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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