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内延生长[100]取向TaON自支撑薄膜的制备方法

854   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:25:31
本发明公开了一种内延生长[100]取向TaON自支撑薄膜的制备方法，可以解决现有技术中TaON无法制备为取向结构，以及无法获得自支撑薄膜的技术问题，而这些问题抑制了TaON的利用。其技术方案为：将钽酸锂单晶晶片在四氯化碳和氨气的混合气氛下进行煅烧后，即可获得内延生长[100]取向TaON自支撑薄膜。本发明的制备方法和实验步骤简单，一步制备[100]取向的TaON自支撑薄膜，可大量制备，本发明制备的薄膜除了具有高的晶体取向结构外，还具有有序的纳米棒状结构。
声明：
“内延生长[100]取向TaON自支撑薄膜的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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