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氮化硼纳米片连续薄膜、其制备方法与应用

872   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:24:30
本发明公开了一种氮化硼纳米片连续薄膜、其制备方法与应用。所述制备方法包括：在基底上覆设前驱物薄膜，之后在含氮反应气氛高温反应，制得所述氮化硼纳米片连续薄膜；所述前驱物薄膜包括至少三种元素，其中的两种元素分别为硼、氧元素，其余元素选自锂、铍、镁、钙、锶、钡、铝、镓、铟、锌、钛和硅中的任意一种或多种的组合。本发明的制备方法可以直接在Si等基底上合成氮化硼连续纳米片(即氮化硼纳米片连续薄膜)，无需金属催化剂的参与，也无需任何转移工序，工艺简单可控，成本低廉，并且所获的氮化硼纳米片连续薄膜可直接作为石墨烯等二维纳米材料的生长基底，进而利于构建石墨烯器件的衬底和/或栅极等，具有巨大的应用前景，能实现批量生产。
声明：
“氮化硼纳米片连续薄膜、其制备方法与应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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