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用于声学滤波器的异质单晶薄膜的制备方法

879   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:24:29
本发明涉及声学滤波器技术领域，特别涉及一种用于声学滤波器的异质单晶薄膜的制备方法。该异质单晶薄膜的制备方法包括以下步骤：提供异质薄膜结构；该异质薄膜结构包括压电薄膜；对该异质薄膜结构进行后退火处理；该后退火温度范围为300‑800摄氏度；该后退火的氛围内含有与该压电薄膜对应的元素材料。从而能够在实现提高键合强度，恢复晶格缺陷的同时，还能够有效抑制压电薄膜中锂元素和氧元素等的外释问题，提高异质单晶薄膜的质量。
声明：
“用于声学滤波器的异质单晶薄膜的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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