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部分氧空位B3+掺杂玻璃态钾快离子导体K2O·4SiO2及其制备方法

864   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:22:05
一种部分氧空位B3+掺杂玻璃态钾快离子导体K2O·4SiO2及其制备方法，其特征为：化学计量式为K2O·4Si1‑xBxO2‑0.5x，其中：x＝0.01‑0.10；采用无规K2O·4SiO2结构，使得钾离子在体系中各向同性传导；通过B3+掺杂获得部分氧空位，为钾离子传导提供新的传导路径，进一步降低了钾离子传导活化能，提升了钾离子活动能力及电导率，使得该钾快离子导体的常温锂离子电导率超过4·10‑4S/cm，使其能作为性能优异的钾快离子导体使用；同时通过高压条件的反应，抑制反应物的不均匀挥发从而导致产物的组分偏离。
声明：
“部分氧空位B3+掺杂玻璃态钾快离子导体K2O·4SiO2及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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