本发明涉及一种用于X射线荧光分析法测量硅铁中硅含量的试样的制备方法。包括一次配料、预氧化、二次配料、熔融,一次配料是用滤纸及混合氧化剂包裹硅铁试样,将试料包裹成球状;预氧化是将坩埚内填满石墨并将球状试料放入石墨凹坑中,然后在高温马弗炉内氧化成椭球状试料;二次配料是在铂金器皿铺碘化铵脱模剂,放置冷却好的椭球状试料,用四硼酸锂和偏硼酸混合熔剂覆盖椭球状试料;熔融是将铂金器皿放入熔片机内,在900℃~1050℃温度状态下熔融19min后得到熔片即为试样,可直接用于X射线光谱分析仪进行分析。本发明可多样同时制作且过程可控性简单,试验耗时短,制作成本低,X射线荧光分析结果准确度高。
声明:
“用于X射线荧光分析法测量硅铁中硅含量的试样的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)