本发明提供无光陶瓷釉用低温熔块及利用该低温熔块制备无光釉陶瓷制品的制备工艺,属于陶瓷技术领域。本发明的陶瓷无光釉由氧化硅、低温熔块、
氧化铝、氧化钠、氧化钾、氧化钙、氧化锂、氧化硼、氧化钡及颜料组成,低温熔块由以下重量百分含量的原料组成:高岭土22~25%、硅酸钠9~15%、硝酸锌8~9%、透辉石8~10%、钛酸铝9~10%、钡长石7~8%、石英5~9%、二苯甲酮6~7%、硼钠钙石5~8%、萤石7~8%、硼砂2~3%。采用本发明提供的无光釉原料与工艺制得的无光釉陶瓷制品,其釉面滋润、细腻且具备一定的硬度、耐磨性与抗水性。
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“无光陶瓷釉用低温熔块及利用该低温熔块制备无光釉陶瓷制品的制备工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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