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平面或管状溅射靶材及其制备方法

855   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:05:15
本发明为平面或管状溅射靶材及其制备方法。已知由包含选自铟、锡、锑和铋且总共占0.01到5.0重量%的重量分率的至少一种其它合金组分的银基合金制成的平面或管状溅射靶材。然而随着靶材越来越大，火花放电变得明显，且通常尤其在像素相对较小的大型高分辨率显示器制造中导致损耗。为了基于这类银合金制造表面积大的溅射靶材，其中该靶材作为平面溅射靶材时表面积大于0.3m2、作为管状溅射靶材时长至少1.0m，且火花放电的危险得以降低因此使得可在相对较高功率密度下进行溅射过程，本发明提出，该银基合金具有平均晶粒尺寸小于120μm的晶体结构、氧含量少于50重量ppm、杂质元素铝、锂、钠、钙、镁、钡和铬各自含量均少于0.5重量ppm且金属纯度为至少99.99重量%。
声明：
“平面或管状溅射靶材及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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