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硅掺杂铁基聚阴离子化合物及其制备方法和应用

1019   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:05:14
本发明公布了一种具有三维离子及电子扩散路径晶体结构的硅掺杂铁基聚阴离子化合物Fe3(P1‑xSixO4)4(P1‑xSixO3)及其制备方法和应用，其中0＜x≤0.2，该化合物由水热法和固体掺杂法分步制备而得，具有更高的振实密度和能量密度，库伦效率和循环性能更优，能够应用为锂离子电池的阴极材料，具有极好的工业前景。
声明：
“硅掺杂铁基聚阴离子化合物及其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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