本发明公开了一种具有垂直孔道的SBA‑15多孔薄膜的制备方法,其以P123、SDS和C16TMAB混合作为三元表面活性剂,以酸化硅酸钠作为硅源,将两者混合制备模板溶液后,利用简单的旋涂成膜工艺技术,在硅片衬底上制备薄膜层,再通过干燥、焙烧除去其中的三元表面活性剂后,经水热处理制得具有垂直孔道的SBA‑15多孔薄膜。本发明制备方法新颖,制作成本低,制备工艺简单,所得具有垂直结构的SBA‑15薄膜能够应用于光电器件和
锂电池方面的制备。
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