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高折射率光学材料及其制备方法

1011   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:00:40
本发明属于光学材料制备领域，具体公开了一种高折射率光学材料及其制备方法，所述高折射率光学材料由以下重量份的原料制备而成：二氧化硅50份、三氧化二硼20‑40份、五氧化二铌20‑40份、二氧化钛15‑30份、三氧化二钆15‑30份、二氧化锆10‑20份、氧化镧10‑20份、氧化锶5‑10份、二氧化锆5‑10份、氧化锂5‑10份、分散剂2‑4份；本发明公开的高折射率光学材料不仅折射率高，且具有高透过率的特点，适合用于各类精密光学仪器。
声明：
“高折射率光学材料及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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