本发明提供一种具有微观裂纹结构的氢氧化钴、其制备方法及应用,涉及
锂电池技术领域。通过络合控制结晶法获得氢氧化钴浆液,然后通过
电化学腐蚀原理制得氢氧化钴。该氢氧化钴的粒径为6~20μm,具有微观裂纹结构。微观裂纹结构有利于沉淀过程包夹其中的阴离子杂质的释放,使得阴离子杂质含量达到100ppm以下。以该氢氧化钴为原料获得的钴酸锂
正极材料,阻抗性能和倍率性能均得到有效改善。
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“具有微观裂纹结构的氢氧化钴、其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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