本发明的二氧化硅系被膜形成用组合物,含有硅氧烷聚合物和碱金属化合物。作为该硅氧烷聚合物,优选具有水解性基团的
硅烷化合物的水解缩合物。作为上述碱金属化合物的碱金属,可使用钠、锂、钾、铷和铯等。另外,作为上述碱金属化合物,可列举上述碱金属的硝酸盐、硫酸盐、碳酸盐、氧化物、氯化物、溴化物、氟化物、碘化物、氢氧化物的等。该二氧化硅系被膜形成用组合物也可以含有空穴形成用材料。作为该空穴形成用材料,可使用选自聚亚烷基二醇及其末端烷基化物的一种以上。
声明:
“二氧化硅系被膜形成用组合物” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)