一种基于MoS
2的全固态电解质忆阻器及其制备方法,属于电子制备工艺以及类脑计算领域,首先选用MoS
2作为沟道材料,MoS
2通过ALD和CVD相结合的方法来制备,选用锂盐作为固态电解质,使用磁控溅射的方法来制备固态电解质层,使用电子束蒸发和磁控溅射等方法来制备电极。通过栅端电场调制锂离子的嵌入和脱出改变二硫化钼的能带结构,同时源漏两端施加读取电压得到沟道电导的变化,使得忆阻器件具有良好的电导更新线性度和更低的操作功耗,可以应用于新一代神经形态计算。利用上述的器件结构已经制备出相应的全固态电解质忆阻器,在脉冲激励下,实现了良好的电导更新对称性和近98%的电导线性度,同时器件具有10
5以上的耐久性。
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“基于MoS2的全固态电解质忆阻器及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)