合肥金星智控科技股份有限公司
宣传

位置:中冶有色 >

有色技术频道 >

> 加工技术

> 双印迹多孔硅膜的制备方法及其应用

双印迹多孔硅膜的制备方法及其应用

700   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-18 23:20:22
本发明属于超分子合成及吸附材料制备技术领域,涉及锂/铷离子双吸附材料的制备,尤其涉及一种双印迹多孔硅膜的制备方法及其应用。本发明先以纤维素纳米晶体(NCC)为模板,掺杂离子印迹对羧基偶氮杯[4]芳烃(IPCA4A)合成二氧化硅薄膜,通过浸渍法在硅膜表面负载离子印迹杯[4]芳烃(IC4A),水热处理去除NCC模板得到双印迹多孔硅膜。利用杯芳烃可以通过改变杯环和上行或下行的取代基以及苯环单元的亚甲基,得到具有高选择性和高吸附性能的功能性杯芳烃衍生物。对羧基偶氮杯[4]芳烃(PCA4A)和杯[4]芳烃(C4A)的大环结构大小恰好分别与锂离子和铷离子相匹配,能对锂/铷离子进行高效的选择性吸附;制得双印迹多孔硅膜,绿色环保,结构稳定,具有良好的吸附性能和重复性。
声明:
“双印迹多孔硅膜的制备方法及其应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
分享 0
         
举报 0
收藏 0
反对 0
点赞 0
标签:
加工技术
全国热门有色金属技术推荐
展开更多 +

 

中冶有色技术平台微信公众号
了解更多信息请您扫码关注官方微信
中冶有色技术平台微信公众号中冶有色技术平台

最新更新技术

报名参会
更多+

报告下载

第二届中国微细粒矿物选矿技术大会
推广

热门技术
更多+

衡水宏运压滤机有限公司
宣传
环磨科技控股(集团)有限公司
宣传

发布

在线客服

公众号

电话

顶部
咨询电话:
010-88793500-807
专利人/作者信息登记