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超薄硅膜及其制备方法和用途

814   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 23:20:04
本发明提供了一种超薄硅膜及其制备方法和用途，该超薄硅膜自下而上依次包括导电基底层、硅膜层和钝化层，由磁控溅射和原子层沉积方法制备得到。该超薄硅膜的硅膜层厚度均匀可控，钝化层厚度适宜，具有优异的电化学性能，用于锂二次电池的电极，能够改变电极材料表面的电化学反应、加快锂离子在充放电过程中的嵌入和脱嵌过程，从而大幅度提高锂二次电池的性能。
声明：
“超薄硅膜及其制备方法和用途” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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