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带氮化硅层的单晶薄膜及其制备方法

998   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 23:19:17
本发明公开了一种带氮化硅层的单晶薄膜及其制备方法，从上至下包括氮化硅层、铌酸锂薄膜层、氧化硅层和硅衬底层；本发明的带氮化硅层的单晶薄膜，由于氮化硅有好的绝缘效果和宽的光学透过窗口，作为光波导传播层，与铌酸锂薄膜有更好的匹配性、高的模式限制、低的传播损耗和高功率处理能力；本发明的带氮化硅层的单晶薄膜的制备方法，氮化硅波导采用LPVCD沉积制成，并和铌酸锂调制器进行集成，可以得到集成度高、宽带宽、损耗低的波导器件；本发明的制备方法适用于工业生产，成品率高。
声明：
“带氮化硅层的单晶薄膜及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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