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多层薄膜调制周期及其均匀性的测量方法

784   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 23:11:36
本发明提供了一种多层薄膜调制周期及其均匀性的测量方法，是将氟化锂粉末压制成圆柱形靶块，表面加工成凹锥形，得氟化锂靶块；将氟化锂靶块安装至加速器的离子源的靶头处，引出负锂离子束流，充入氮气，使锂离子束在加速器管内经剥离气体碰撞剥离后得到二价的Li2+正离子束；再将待测量的多层薄膜放置在卢瑟福背散射测量靶室中的样品台上，用束流积分仪测量Li2+束的束流，形成RBS谱，进而得出多层膜的调制周期及均匀性信息。本方法用RBS测量薄膜的调制周期、元素分布和均匀性，其测量精度高，并且对样品没有损伤，是一种高精度、高品质的无损检测多层膜的方法。
声明：
“多层薄膜调制周期及其均匀性的测量方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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