本发明了提供蚀刻硅以形成柱体的方法,所述柱体尤其用作Li离子电池中的活性阳极材料,该方法在工业规模下的运行简单,因为其使用仅含少量需要控制浓度的成分的蚀刻浴,并且其在运行上比之前的方法廉价。该蚀刻溶液包含:5至10M、例如6至8M?HF,0.01至0.1M?Ag+离子,0.02至0.2M?NO3-离子,和任选地,SiF62-离子,碱金属或铵离子,和附带的添加物和杂质。在蚀刻过程中追加NO3-离子,例如以碱金属或铵的硝酸盐形式添加,以使硝酸根离子浓度保持在上述范围内。
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“制造由硅或硅基材料构成的结构化粒子的方法及其在锂可充电电池中的用途” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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