一种锂离子电池负极集流体材料,包括金属铜箔,金属铜箔表面覆有碳化硅层,碳化硅层厚度是0.003-0.009mm。采用物理气相沉积方法中的射频磁控溅射工艺制备材料,其工艺条件为:以碳化硅为溅射靶,金属铜箔为溅射基材,通入氩气,射频电源频率为30-50MHz,加速电压为300-500V,磁场为50-200G,气压为1-5mTorr,电流密度为30-50mA/cm,功率密度为20-40W/cm,溅射靶与基材之间的距离为50-100mm,基材的速度为20-30m/min。
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