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铝锂合金半连续铸造装置及其引锭底座

855   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-18 22:43:51
本申请公开了一种引锭底座,包括可设置在圆锭结晶器下沿的底座本体,底座本体的引锭面设有台阶型凹陷部以使底座本体的引锭面形成台阶部,台阶部至少包括在底座本体的引锭面上从外向内布置的第一台阶部和第二台阶部,台阶部的总高度为38‑50mm。本申请所提供的引锭底座,通过第一台阶部和第二台阶部的设置,并将台阶部的总高度设置为38‑50mm,有效的减少凹陷的深度,改善了圆形铸锭的初始结晶条件,不易形成深液穴,从而有效地防止了圆形铸锭中心裂纹的产生。本申请还公开了一种包括上述引锭底座的铝锂合金半连续铸造装置。
声明:
“铝锂合金半连续铸造装置及其引锭底座” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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