本发明公开了一种用于制备高抗拉
锂电铜箔的电解液,包含主电解液和添加剂,主电解液包含硫酸铜、硫酸和氯离子,添加剂包含A剂、B剂、C剂,A剂为含硫杂环化合物,B剂为含氮天然或合成高分子化合物,C剂为嵌段聚醚类化合物。本发明的电解液通过采用特定的添加剂及其配比优化,可以有效控制晶粒的生长,减少铜箔缺陷,获得致密的铜箔,以此制备的铜箔,具有高抗拉强度、高延伸率。
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