本发明公开了一种超薄超高抗双面光
锂电铜箔的生产方法,包括以下步骤:配置电解液进行哈林槽打片,每次1.5L,根据多种添加剂体系要求,添加相应的添加剂,电解液参数按照要求进行,电解液浓度为1‑20ppm;哈林槽加液1.5L,添加剂按照浓度添加,充分搅拌均匀,电流26.5A,通电50s,控制槽压4.5‑5.5V,电镀结束后‑用纯水冲洗,然后用吹风机吹干;将铜箔从阴极板剥下,检测光泽度、抗拉强度,添加剂实验每批次实验结束后换液。本发明采用上述一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法,同时提升了铜箔的常温抗拉强度及延伸率,工艺简单,6μm高抗铜箔外观无差异。
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