一种在铝酸锂(302)面衬底上生长非极性a(11-20)面GaN薄膜的方法,在金属有机物化学 气相淀积(MOCVD)系统中,在铝酸锂(LiAlO2)(302)面衬底上,在N2保护下,升温到 800-950℃,在氮气气氛下生长低温保护层,低温保护层反应室压力为150-500torr,三甲基镓 (TMGa)流量为1-50sccm,对应于摩尔流量:4E-6mole/min-3E-4mole/min;然后降低压力 至100-300torr,升温到1000-1100℃在氮气气氛下继续生长非掺杂氮化镓(U-GaN)层,TMGa 流量为10-150sccm,对应于摩尔流量:4E-5mol/min-7.5E-4mole/min;然后再升温到 1050-1150℃,在氢气气氛下生长高温U-GaN约1um,TMGa流量为20-200sccm,对应于摩尔 流量:8E-5mol/min-1E-3mole/min。本发明的创新点在于根据铝酸锂(302)面衬底的特点,设 计了一套新的外延工艺,使得所生长的外延薄膜具有更高质量、更具有实用性。
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