本发明公开了一种用于
磷酸铁锂基于CVD工艺的加工设备及基于设备的加工工艺,其结构包括入口置换室,所述入口置换室侧壁安装有辊道窑体结构,所述辊道窑体结构包括升温箱、恒温箱、冷却箱、CVD gas打入管、冷却水喷头、辊道传送带和电加热器,所述辊道窑体结构远离入口置换室的一侧安装有出口置换室,所述辊道窑体结构侧壁安装有固定结构。本发明结构新颖,且密封效果好,密封持久性强,生产安全可靠,节约使用成本,完成CVD包覆工艺,优化CVD包覆效果,其基于设备的加工工艺简单、有效实现磷酸铁锂CVD包覆。
声明:
“用于磷酸铁锂基于CVD工艺的加工设备及基于设备的加工工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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