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镓酸锂衬底上的垂直结构非极性LED芯片及其制备方法

968   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 21:48:07
本发明公开了镓酸锂衬底上的垂直结构非极性LED芯片及其制备方法，该方法在镓酸锂衬底上生长LED外延片，包括生长在镓酸锂衬底上的GaN缓冲层，在GaN缓冲层上的非掺杂GaN层，在非掺杂GaN层上的n型掺杂GaN薄膜，在n型掺杂GaN薄膜上的InGaN/GaN量子阱，在InGaN/GaN量子阱上的p型掺杂GaN薄膜。接着在LED外延片表面通过匀胶、光刻、显影、清洗步骤制备电极图案，在外延片上表面依次沉积电极金属。随后将LED外延片转移至铜衬底上。接着用HCl溶液将原有镓酸锂衬底剥离，制备二氧化硅保护层，将电极对应部分暴露出来，再将电极上的SiO2腐蚀掉，形成完整的垂直结构LED芯片。
声明：
“镓酸锂衬底上的垂直结构非极性LED芯片及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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