本发明的目的是提供一种基于氟化锂缓冲层的有机场效应管薄膜封装技术。其特征在于,氟化锂可以用真空热蒸发方法制备,不仅不会对下面的有机功能层产生损伤,而且与有机器件制备工艺兼容。本发明提供的制备上述基于氟化锂缓冲层的光敏有机场效应管薄膜封装技术,包括以下步骤:①在待封装有机光敏场效应管上用真空热蒸发方法制备氟化锂缓冲层;②在氟化锂缓冲层上面用溅射或旋涂方法制备封装薄膜。
声明:
“基于氟化锂缓冲层的光敏有机场效应管薄膜封装技术” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)