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用于硼酸锂铯晶体的化学机械无水抛光液及平整化方法

863   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 21:05:43
本发明公开了一种对硼酸锂铯晶体有效的无水 抛光液及抛光方法。本发明用于硼酸锂铯晶体的化学机械无水 抛光液的组成成分wt％如下：(a)纳米 SiO2磨料4－8、(b)有机溶剂72 －95、(c)有机碱0.5－10、(d)表面活性剂0.5－10。对硼酸锂铯 晶体进行抛光，抛光压力设定在0.05MPa至0.1MPa之间；抛 光盘转速为30r/min至60r/min之间；时间设定5至10分钟之 间。本发明为流动性好，无毒、无污染，无腐蚀，浓度适中， 悬浮性好的无水抛光液，避免了抛光过程中由于潮解致使 CLBO晶体开裂的问题，且抛光后表面的光洁度高。
声明：
“用于硼酸锂铯晶体的化学机械无水抛光液及平整化方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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