本申请公开了一种预锂化负极片、其制备方法及
锂电池,该预锂化负极包括负极集流体、覆盖在负极集流体表面的活性物质层、覆盖在活性物质层部分表面的多个修饰层,以及覆盖在活性物质层剩余表面及多个修饰层表面的含锂层,多个修饰层在活性物质层表面间隔分布,覆盖率为30~75%。上述预锂化负极中的修饰层/含锂层界面作为人工电子通路,负责在预锂化过程中稳定两相界面间的电子传输,避免了界面应力波动对电子通路结构的破坏,显著加强了接触预锂化的反应深度,提高了含锂层的利用率,降低了惰性锂的形成的产量,提高了电池的容量保持率和循环稳定性。
声明:
“预锂化负极片、其制备方法及锂电池” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)