本发明涉及一种超薄碳化钼材料的制备方法及其产品,属于碳化钼材料制备技术领域,该方法包括以下步骤:(1)将催化剂置于钼源上,放置于反应炉管内,然后通入保护气氛;(2)升温至900‑1100℃,恒温0‑30min,通入碳源后反应10‑60min;(3)降温至25℃,制得超薄碳化钼材料。该方法制备工艺简单,制得的超薄碳化钼材料(100nm厚度以下)是一种具有催化特性并且能够稳定存在的二维材料,其在光电催化、吸附、传感、纳米能源、
复合材料、热电材料、超导材料等多个技术领域具有广泛应用。
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