本发明公开了一种基于双像解析的岩体结构面产状测量方法,包括:布设控制点,从左右两个角度各拍摄一张围岩的影像;估算两幅影像拍摄时的内方位元素和外方位元素;进行误差分析,判断影像解析精度是否满足要求;在左幅影像中沿每条结构面迹线布设多个锚点;搜寻锚点在对应右幅影像中的位置;利用共线方程求解锚点三维坐标;确定结构面所在平面方程;根据平面方程解译出结构面的倾向和倾角。本发明可用于测量结构面暴露面积非常小,仅呈迹线出露而无法直接使用地质罗盘测量的情况,且不会受到磁场干扰,具有测量安全、准确、快速的优点。
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