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SiOx : Si溅射靶材及其制造及使用方法

1069   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:27:35
本发明在保护性环境中融结二氧化硅和导电的掺杂硅从而生成复合的SiO2 : Si材料，其具有SiO2的特性，而又由于Si的存在而导电。这样的复合材料用作DC和/或AC溅射工艺中的靶材以生产用于触摸屏等应用中的导电二氧化硅薄膜。
声明：
“SiOx : Si溅射靶材及其制造及使用方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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