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基于新型High-K材料的GeSn沟道场效应晶体管

819   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:26:11
本发明公开了一种基于新型High?K材料的GeSn沟道场效应晶体管，主要解决现有基于现有介质材料的场效应晶体管，静态功耗大的问题。其包括：衬底(1)、沟道(2)、绝缘介质薄膜(3)、栅电极(4)、源极(5)和漏极(6)，衬底(1)采用的单晶半导体材料；该沟道(2)，采用Sn组分为[0.05，0.12]的通GeSn复合材料；该绝缘介质薄膜(3)采用介电常数在3.9～80范围的高介电常数材料；该栅电极(4)和绝缘介质薄膜(3)自上而下覆盖沟道(2)的正上方。本发明可在不提高工艺成本且满足等效氧化层厚度的前提下，提高栅极介电层的物理厚度，降低栅极漏电流，减小静态功耗，进而提升场效应晶体管的整体性能。
声明：
“基于新型High-K材料的GeSn沟道场效应晶体管” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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