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Cu2-xS自掺杂半导体光热材料及其在隐形指纹成像方面的应用

916   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:18:51
本发明公开了一种基于Cu2-xS自掺杂半导体光热材料的隐形指纹成像方法。本发明利用烯丙基硫醇的聚合作用，对具有较高光热转换效率的Cu2-xS自掺杂半导体材料的表面进行修饰，使其具有两亲性，能够选择性地吸附于隐形指纹上，并借助于近红外光辐射和近红外成像仪，实现了复杂背景下隐形指纹地清晰成像。此外，本发明利用Cu2-xS-CdSe@ZnS的纳米复合材料所构筑的一种荧光-光热双模态成像方法，可以在实现指纹形貌成像完整的条件下，成功地检测到隐形指纹里含有的2, 4, 6-三硝基甲苯等烈性爆炸品残留物，为侦察犯罪分子犯罪证据提供了有力的手段，能够在司法鉴定和反恐应用中发挥重要作用。
声明：
“Cu2-xS自掺杂半导体光热材料及其在隐形指纹成像方面的应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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