本发明公开了一类耐溶剂的、柔性共聚聚酰亚胺基板,其在短暂暴露于300℃后仍保持高光学透明度(400nm-750nm,>80%),以及具有接近于零的双折射(<0.001)和约60ppm/℃的最大CTE。所述共聚聚酰亚胺由脂环族二酐、芳族环状二胺和包含自由的羧基的芳族二胺制备。所述基板由包含多官能环氧化物的共聚聚酰亚胺的溶液以单层膜、多层层压制品和玻璃纤维增强
复合材料膜的形式制造。所述基板可以用于构建柔性光学显示器和其它需要它们独特性能组合的微电子和
光伏器件。
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