本发明涉及化学气相沉积(CVD)技术领域,具体涉及一种利用微波加热的化学气相沉积方法。所述方法步骤包括:(1)将石墨、碳化硅、石墨
复合材料或碳化硅复合材料中的一种,加工成所需形状的基体,悬挂在反应腔体内,将反应腔体密封并抽真空至0.1~1Torr;(2)利用微波辐射加热基体,微波的输出功率为1~80kW,将基体加热至500~1200℃;(3)向反应腔体内通入反应气体,通气时间为1~20小时,在通气过程中,基体温度保持在500~1200℃,得到薄膜材料,反应尾气经过金属屑以及喷淋洗涤完全吸收后排出。本发明利用微波加热基体,缩短了基体升温时间,提高了生产效率。
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