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低温还原制备高首效氧化亚硅的方法及其应用

1016   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:00:09
本发明涉及一种低温还原制备高首效氧化亚硅的方法及其应用，属于储能材料技术领域，包括以下步骤：将氧化亚硅和碳源混合，于600℃‑1200℃保护气气氛中，保温处理，得到碳源包覆硅氧基复合材料；将上述碳源包覆硅氧基复合材料、镁粉和三氯化铝混合后，150℃‑500℃保护气气氛中，保温处理，获得复合材料的还原产物，经过酸洗、醇洗和水洗，干燥得到高首效氧化亚硅，本发明采用低温还原方式，一方面可以避免高温下材料晶体尺寸长大，在实现高首效的同时保证材料的循环稳定性；另一方面低温处理，可以有效保留包覆后形成的无定形碳层，同时可以有效避免反应过程中碳层扩散至材料空隙内部，无需二次包覆。
声明：
“低温还原制备高首效氧化亚硅的方法及其应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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