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碳化硅基致密硅涂层及其制备方法与应用、光学反射镜

799   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:00:09
本发明涉及一种碳化硅基致密硅涂层及其制备方法与应用、光学反射镜，属于材料领域。制备方法包括：采用等离子喷涂‑物理气相沉积方法将含有Si元素的涂层沉积于基体的表面，基体的原料包括碳化硅基复合材料，碳化硅基复合材料包括SiC/SiC复合材料。该制备与传统制备技术相比，可减少涂层中的热应力和裂纹数量，抛光后可满足目前太空反射镜光学要求。制备而得的碳化硅基致密硅涂层致密均匀、硬度适中、抛光性好，热变形系统小、抗热震性好，具有较佳的热性能及机械性能且耐环境能力强。
声明：
“碳化硅基致密硅涂层及其制备方法与应用、光学反射镜” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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